ASML levert machines voor halfgeleideronderzoek Imec
De fabrikant van halfgeleidermachines ASML stelt zijn complete assortiment aan geavanceerde lithografie- en metrologie-apparatuur beschikbaar voor de proefopstelling voor High NA-EUV-lithografie bij onderzoeks- en innovatiecentrum Imec in Leuven.
Dat maakten de organisaties woensdag bekend. De apparatuur “vertegenwoordigt een hoge waarde voor de proeflijn”, stelden de partners.
De baanbrekende High-NA-EUV-technologie is cruciaal voor de ontwikkeling van chips die hoge prestaties leveren met weinig energie, wat nodig is voor AI-systemen van de volgende generatie, stellen de organisaties. Ook kan de technologie oplossingen bieden voor problemen in gezondheidszorg, voeding, mobiliteit, klimaatverandering en duurzame energie.
“ASML levert een substantiële bijdrage aan de geavanceerde proeflijn van Imec, om onderzoek naar halfgeleiders en duurzame innovatie in Europa te steunen”, stelde CEO Peter Wennink van ASML. “Nu kunstmatige intelligentie (AI) snel uitbreidt naar domeinen zoals de verwerking van natuurlijke talen, computerbeeld en autonome systemen, escaleert de complexiteit van taken. Daarom is het cruciaal om chiptechnologie te ontwikkeling die kan voldoen aan de behoefte aan rekenkracht, zonder de kostbare (energie)bronnen van de planeet uit te putten.”
Er zijn forse investeringen nodig om de halfgeleiderindustrie breed toegang te bieden tot High NA EUV-lithografie tot na 2025 en om de bijbehorende onderzoekscapaciteit in Europa te behouden, stellen de partners. Het doel is om de technologie zo snel mogelijk toe te passen in massaproductie. De samenwerking komt overeen met de doelstellingen van de Europese Unie op dit gebied.
De proeflijn moet bedrijven die halfgeleidertechnologieen toepassen helpen begrijpen welke mogelijkheden deze geavanceerde halfgeleidertechnologie biedt. Ook krijgen ze toegang tot een platform voor prototypes dat hun innovaties kan ondersteunen.
